真空充氮烤箱用于電子芯片
發(fā)布時間:2023-07-07 09:44:25 點擊次數(shù):次
真空充氮烤箱用于電子芯片 真空充氮烤箱用于電子芯片好處
真空充氮烤箱是一種用于電子芯片制造的設備,它的主要功能是通過創(chuàng)建真空環(huán)境和注入氮氣來控制熱處理過程中的氧氣和濕氣含量。這種烤箱可以有效地保護電子芯片免受氧化和濕氣影響,提高芯片的質(zhì)量和可靠性。真空充氮烤箱的操作原理是在烘烤過程中將烤箱內(nèi)部壓力降至非常低的水平,通常在幾百帕以下,以創(chuàng)建真空環(huán)境。然后通過注入氮氣來取代真空環(huán)境中的空氣,以降低氧氣和濕氣的含量。這樣可以有效地減少氧化反應和水分對芯片的影響,提高芯片的穩(wěn)定性和可靠性。
真空充氮烤箱通常采用高溫加熱方式,通過控制溫度和時間來實現(xiàn)對電子芯片的熱處理。在烤箱內(nèi)部,芯片會暴露在高溫環(huán)境下,以實現(xiàn)特定的熱處理效果,如退火、熱氧化、熱硬化等。真空環(huán)境和氮氣注入可以有效地控制熱處理過程中的氧氣和濕氣含量,從而提高芯片的品質(zhì)和性能。
總的來說,真空充氮烤箱在電子芯片制造中扮演著重要的角色,通過控制熱處理過程中的氧氣和濕氣含量,可以提高芯片的質(zhì)量和可靠性,同時減少氧化和濕氣對芯片的影響。這種設備在電子行業(yè)中被廣泛應用,并對電子產(chǎn)品的性能和壽命提供了重要支持。 一、用途簡介:
真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業(yè)作無氧真空快速干燥、退火等高溫處理,可充惰性氣體防止產(chǎn)品氧化。深受生產(chǎn)線、實驗室及科研單位喜愛。
二、主要技術(shù)指標:
規(guī)格型號: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
內(nèi)箱尺寸(cm): 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
總功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ
溫度偏差: ±3% ±5% ±8%
真空泵: 4升 8升
溫度范圍(選擇):
□ RT+10℃~200℃
□ RT+10℃~250℃
□ RT+20℃~300℃
真空度范圍: 0~-100KPa
控制方式: 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制
結(jié)構(gòu): 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)
內(nèi)箱材質(zhì): SUS304#不銹鋼
外箱材質(zhì): SECC鋼板高級烤漆處理
充氮氣裝置: 1)氮氣壓力范圍:3~4Kg左右;
2)流量計:量程為10L/min-100Lmin;
3)氣管配置:∮8mm氣管快插口;
4)充氮控制方式:采用時間自動控制或手動控制;
5)排氣閥:充氮氣的同時打開排氣閥,防止箱內(nèi)高壓;
6)氮氣:氮氣源用戶自備
真空充氮烤箱對于電子芯片制造有以下幾個好處:1. 氧化保護:真空充氮烤箱可以創(chuàng)建一個幾乎沒有氧氣的環(huán)境,有效地避免芯片在高溫下氧化反應。氧化反應會導致芯片的性能下降甚至失效,使用真空充氮烤箱可以大大減少氧化帶來的問題,提高芯片的品質(zhì)和可靠性。
2. 濕氣控制:真空充氮烤箱通過注入氮氣,可以有效地降低烘烤過程中的濕氣含量。濕氣會導致芯片內(nèi)部的金屬腐蝕和電性能下降,使用真空充氮烤箱可以減少濕氣對芯片的影響,提高芯片的穩(wěn)定性和可靠性。
3. 溫度控制:真空充氮烤箱可以精確控制熱處理過程中的溫度,確保芯片在特定的溫度下進行熱處理。溫度控制的準確性對于芯片的性能和可靠性至關重要,真空充氮烤箱能夠提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境,確保芯片的熱處理效果符合要求。
4. 芯片質(zhì)量提升:通過使用真空充氮烤箱,可以減少芯片的氧化和濕氣問題,提高芯片的質(zhì)量和可靠性。良好的芯片質(zhì)量可以提升產(chǎn)品的性能和壽命,降低故障率,從而提高整體的產(chǎn)品競爭力。
綜上所述,真空充氮烤箱在電子芯片制造中具有重要作用,通過氧化保護、濕氣控制、溫度控制等方面的優(yōu)勢,能夠提高芯片的品質(zhì)和可靠性,為電子產(chǎn)品的性能提供重要支持。